美国顶尖芯片学者解读韬定欧交易所app官网下载安全律：华为绕过光刻机实现等效1.4nm是可行的

快科技6月5日消息，美国针对华为此前正式发布的顶尖等效韬定律，全球芯片设计自动化、芯片学欧交易所app官网下载安全半导体技术路线图领域的解读顶尖权威学者Andrew B. Kahng在近期受访时公开表态，这套全新的韬定技术路线在部分核心维度上，确实能实现比传统路径更短的律华研发周期。

此前华为公司董事、为绕半导体业务部总裁何庭波正式对外发布“韬（τ）定律”，过光核心思路是刻机可行跳出过去半个世纪靠缩小晶体管物理尺寸推进制程升级的传统路径.

按照公开的技术推演，到2031年，实现欧交易所app官网下载安全基于韬定律实现的美国高端芯片，晶体管等效密度就能达到传统路径下1.4纳米制程的顶尖等效同等水平。

Andrew B. Kahng对此明确指出，芯片学2031年距离当下只剩5年的解读时间窗口，由此完全可以合理推测，韬定华为至少已经完整掌握了一条能够支撑该技术目标落地的可验证路径，相关核心研究已经推进到了相当成熟的阶段。

整个行业都早已感知到先进制程升级的收益边际在持续收窄，核心的功耗、性能、面积三大关键指标，从5nm往3nm、2nm再到1.4nm推进的过程中，每一代升级能带来的实际改善幅度已经大幅放缓。

这也就意味着，韬定律需要填补的技术差距，实际上远小于外界此前基于传统路径直观预判的量级，整套非传统路线的落地可行性，比很多观察者此前预想的要高得多。

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责任编辑：雪花

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