三星 2nm 工艺相较 3n欧亿m 能效提升 8%，Exynos 2600 率先采用

IT之家 11 月 17 日消息，星n效提先采三星力求在 2 纳米时代重振其晶圆代工业务，艺相用目前看来已步入正轨。星n效提先采欧亿该公司近日公布了其下一代制程工艺的艺相用首批量产成果，显示出相较前代工艺显著的星n效提先采性能提升。即将搭载于 Galaxy S26 的艺相用 Exynos 2600 芯片即采用该工艺制造。此外，星n效提先采据称三星已成功为这一先进制造技术争取到其他芯片客户。艺相用

据 Dailian 报道，星n效提先采三星在其第三季度财报中披露，艺相用其第一代 2 纳米全环绕栅极（Gate-All-Around,星n效提先采欧亿 GAA）制程相较于第二代 3 纳米技术有了显著提升：性能提升 5%，能效提升 8%；芯片面积更缩减了 5%，艺相用表现颇为亮眼。星n效提先采

近年来，艺相用三星晶圆代工部门持续面临行业龙头、星n效提先采同时也是主要竞争对手台积电（TSMC）的激烈竞争。根据 2025 年第二季度数据，台积电在全球晶圆代工市场所占份额已超 70%。不过，行业分析人士普遍认为，向 2 纳米技术的过渡有望为三星缩小与台积电的差距创造契机。

据IT之家了解，三星与台积电均在 2 纳米节点采用 GAA 架构，但两者技术路径存在差异：台积电系首次在 2 纳米节点引入 GAA，而三星早在其上一代 3 纳米制程中已率先应用该架构。这意味着三星在 GAA 技术上已积累了一代量产经验，或具备一定先发优势。其实际竞争力如何，尚待搭载 Exynos 2600 芯片的 Galaxy S26 手机正式上市并接受市场检验后方能揭晓。

关键仍然在于良率，通常认为 60% 以上的良率适合量产。台积电在 2 纳米工艺上实现了约 80% 的良率，被认为已进入稳定量产阶段。据悉，三星电子已将良率提升至 50%~60% 的水平。关键仍然在于良率。通常认为 60% 以上的良率适合量产。台积电在 2 纳米工艺上实现了约 80% 的良率，被认为已进入稳定量产阶段。据悉，三星电子已将良率提升至 50%~60% 的水平。

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